TCVN 6111-2009-ISO - Thử Không Phá Hủy - Kiểm Tra Chụp Ảnh Bức Xạ Các Vật Liệu Kim Loại Bằng Tia X

Discussion in 'Tiêu Chuẩn, Quy Chuẩn Việt Nam' started by nhandang123, Dec 29, 2015.

  1. nhandang123

    nhandang123 Moderator

    [​IMG]
    TCVN 6111-2009-ISO - Thử Không Phá Hủy - Kiểm Tra Chụp Ảnh Bức Xạ Các Vật Liệu Kim Loại Bằng Tia X Và Tia Gamma - Quy Tắc Cơ Bản
    Tiêu chuẩn này quy định những quy tắc cơ bản để chụp ảnh bằng tia X và tia gamma trong công nghiệp với mục đích phát hiện khuyết tật, khi dùng kỹ thuật phim, áp dụng cho các sản phẩm và vật liệu kim loại. Các tài liệu viện dẫn sau rất cần thiết cho việc được áp dụng tiêu chuẩn này. Đối với các tài liệu viện dẫn có ghi năm công bố thì áp dụng phiên bản được nêu. Đối với các tài liệu viện dẫn không ghi năm công bố thì áp dụng phiên bản mới nhất, bao gồm cả các sửa đổi, bổ sung (nếu có). Khoảng cách giữa nguồn và phim (SFD) (source - to - film distance) Khoảng cách giữa nguồn bức xạ và phim đo theo hướng của chùm tia.
    • TCVN 6111-2009-ISO 5579 : 1998
    • TCVN/TC 135 Thử không phá hủy
    • Ngày ban hành: 2009-12-31, 3068/QĐ-BKHCN
    • Số trang: 17
    Link Download
    http://www.mediafire.com/download/jenglvd7xcr8p3w/
    https://drive.google.com/drive/folders/1yLBzZ1rSQoNjmWeJTZ3WGQHg04L1
     

    Zalo/Viber: 0944625325 | buihuuhanh@gmail.com

Share This Page